制藥廠惡臭廢氣處理工藝
未知, 2021-01-29 10:50, 次瀏覽
制藥廠惡臭廢氣處理工藝
制藥廠在生產(chǎn)過程中會(huì)產(chǎn)生大量的有機(jī)廢氣,廢氣味道很大,不僅污染環(huán)境,而且危害員工健康。廢氣成分包括三乙胺、亞磷酸三乙酯、乙腈、二氯甲烷等。因此,有必要對(duì)制藥惡臭廢氣進(jìn)行處理。決定選擇光催化除臭工藝。
制藥廠惡臭廢氣的處理工藝;
制藥產(chǎn)生的有機(jī)廢氣通過排氣設(shè)備輸入uv光催化除臭設(shè)備,凈化設(shè)備利用高能紫外光束和臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解和氧化反應(yīng),使惡臭氣體物質(zhì)降解為低分子化合物、水和二氧化碳,然后通過排氣管排放到室外。
光催化除臭設(shè)備的工作原理;
本產(chǎn)品采用特殊的高能、高臭氧紫外光束照射惡臭氣體和二氧化鈦進(jìn)行光催化,催化裂解惡臭氣體如氮?dú)?、三甲胺、硫化氫、甲基硫化物、甲硫醇、二甲基二硫、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S、VOC、苯、甲苯和二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu),使有機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物的分子鏈在高能紫外光束照射下降解轉(zhuǎn)化為CO2等低分子化合物。
二氧化鈦的光催化活性在很大程度上影響光催化反應(yīng)速率,而二氧化鈦的光催化活性主要受二氧化鈦的晶型和粒徑的影響。銳鈦礦型二氧化鈦具有高催化活性。隨著粒徑的減小,電子和空穴簡單復(fù)合的幾率降低,光催化活性增加。此外,孔隙率、平均孔徑、顆粒表面狀態(tài)、純度等。對(duì)其光催化活性也有一定影響。為了提高光降解效率,對(duì)二氧化鈦光催化劑進(jìn)行了改性,如制備納米二氧化鈦、制備二氧化鈦復(fù)合半導(dǎo)體、摻雜金屬離子、敏化染料等。二氧化鈦催化劑也可以通過各種先進(jìn)的手段來制備,以提高光催化劑的活性。
空氣中的氧分子被高能臭氧紫外光束分解,產(chǎn)生游離氧,即活性氧。由于自由氧攜帶的正負(fù)電子不平衡,氧分子結(jié)合產(chǎn)生臭氧。UV+O2→o-+o*(活性氧)o+O2→O3(臭氧)。眾所周知,臭氧對(duì)有機(jī)物有很強(qiáng)的氧化作用,對(duì)惡臭氣體和其他刺激性氣味有立即去除作用。
利用高能紫外光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵,破壞細(xì)菌的核酸(DNA),然后利用臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng),從而完全達(dá)到除臭殺菌的目的。
光催化光解廢氣凈化器又稱紫外線除臭設(shè)備、光電離子廢氣凈化設(shè)備、光解催化氧化廢氣凈化設(shè)備等。它是一種能高效、快速去除揮發(fā)性有機(jī)化合物(VOC)、無機(jī)物、硫化氫、氨、硫醇、苯等各種惡臭氣體的環(huán)保設(shè)備。除臭效果更好,除臭效果大大超過國家惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)(GB14554-93)。
UV光催化除臭設(shè)備廣泛應(yīng)用于各種有污染源的惡臭氣體的除臭凈化,如油漆廢氣處理、油墨廢氣處理、塑料廢氣處理、化工廢氣處理、制藥廢氣處理、污水池臭氣處理、煙草廢氣處理、鑄造廢氣處理等。